工業(yè)CT是應用于工業(yè)領域的計算機斷層掃描技術。它是以不損傷被檢測對象的性能為前提的一種無損檢測技術，與射線照相、超聲等常規(guī)無損檢測方法對比，工業(yè)CT具有檢測速度快、分辨率高、不受被測對象幾何結構限制等優(yōu)點，廣泛應用于工業(yè)設備、產品的無損檢測及質量評估中，被*為是20世紀后期偉大的科技成果之一。
工業(yè)CT的結構組成：
1、輻射源
射線源常用X射線機和直線加速器。X射線機的峰值能量范圍從數十到450keV，且射線能量和強度都是可調的;直線加速器的射線能量一般不可調，常用的峰值射線能量范圍在1一16MeV。其共同優(yōu)點是切斷電源以后就不再產生射線，焦點尺寸可做到微米量級。
2、探測器
目前常用的探測器主要有高分辨CMOS半導體芯片、平板探測器和閃爍探測器三種類型。半導體芯片具有小的像素尺寸和大的探測單元數，像素尺寸可小到10μm左右。平板探測器通常用表面覆蓋數百微米的閃爍晶體(如CsI)的非晶態(tài)硅或非晶態(tài)硒做成，像素尺寸約127μm，其圖像質量接近于膠片照相。閃爍探測器的優(yōu)點是探測效率高，尤其在高能條件下，它可以達到16~20bit的動態(tài)范圍，且讀出速度在微秒量級。其主要缺點是像素尺寸較大，其相鄰間隔(節(jié)距)一般≥0.1mm。
3、樣品掃描系統
樣品掃描系統從本質上說是一個位置數據采集系統。工業(yè)CT常用的掃描方式是平移一旋轉((TR)方式和只旋轉(RO)方式兩種。RO掃描方式射線利用效率較高，成像速度較快。但TR掃描方式的偽像水平遠低于RO掃描方式，且可以根據樣品大小方便地改變掃描參數(采樣數據密度和掃描范圍)。特別是檢測大尺寸樣品時其*性更加明顯，源探測器距離可以較小，以提高信號幅度等。
工業(yè)CT的主要技術特點如下：
給出試件的斷層掃描圖像，從圖像上可以直觀地看到檢測目標細節(jié)的空間位置、形狀大小，目標不受周圍細節(jié)特征的遮擋，圖像容易識別和理解。
具有突出的密度分辨能力，高質量的CT圖像可達0.1％甚至更小，比常規(guī)射線技術高一個數量級。
采用高性能探測器，動態(tài)范圍可達1萬以上，膠片照相動態(tài)范圍一般為200～1000，圖像增強器的動態(tài)范圍一般市500～2000。
圖像是數字化的結果，從中可直接給出像素值，尺寸甚至密度等物理信息，數字化的圖像便于存儲、傳輸、分析和處理。
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工業(yè)CT的結構組成和技術特點詳解
更新時間：2025-06-03
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